Tecnología única de semiconductores para la próxima generación de microchips que ahorra costes y aumenta el rendimiento hasta un 20% o más
Una pyme alemana tecnológicamente avanzada especializada en herramientas de microingeniería para procesamiento de semiconductores ha desarrollado una nueva tecnología de implantación de iones de alta energía basada en un filtro de energía para implantación de iones (EFII) que permite el dopaje muy preciso distribuido en profundidad de cualquier material semiconductor (por ejemplo, SiC). La empresa busca compañías del sector de semiconductores y fundiciones que utilicen el proceso de implantación de iones o fabriquen aceleradores de haz de iones con el fin de establecer acuerdos de cooperación y comercialización con asistencia técnica.