SPAIN | ACTIS
15/01/2016
Lmite 02 Feb 2020
Oferta Tecnolgica
Ref.
TOES20190110002
Proceso de delaminacin de bajo coste para aislar grafeno de alta calidad
Investigadores espaoles han desarrollado un nuevo proceso sencillo para aislar grafeno altamente cristalino y transferirlo desde el sustrato de carburo de silicio (SiC) en el que se ha hecho crecer a cualquier otro sustrato, como un dielctrico para aplicaciones de dispositivos electrnicos. Este nuevo mtodo de transferencia ha sido demostrado experimentalmente, presentando un buen rendimiento y reproducibilidad. El mtodo de delaminado y transferencia se basa en el uso de obleas de SiC dopadas, que son ms econmicas que las obleas de SiC semiaislantes que se requieren a menudo, y no utiliza productos qumicos txicos agudos. Los investigadores buscan productores de grafeno o SiC y fabricantes de dispositivos con el fin de explotar el know-how mediante un acuerdo de licencia de patente.
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18/05/2018

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03/07/2008