SPAIN | ACTIS
15/01/2016
Límite 02 Feb 2020
Oferta Tecnológica
Ref.
TOES20190110002
Proceso de delaminación de bajo coste para aislar grafeno de alta calidad
Investigadores españoles han desarrollado un nuevo proceso sencillo para aislar grafeno altamente cristalino y transferirlo desde el sustrato de carburo de silicio (SiC) en el que se ha hecho crecer a cualquier otro sustrato, como un dieléctrico para aplicaciones de dispositivos electrónicos. Este nuevo método de transferencia ha sido demostrado experimentalmente, presentando un buen rendimiento y reproducibilidad. El método de delaminado y transferencia se basa en el uso de obleas de SiC dopadas, que son más económicas que las obleas de SiC semiaislantes que se requieren a menudo, y no utiliza productos químicos tóxicos agudos. Los investigadores buscan productores de grafeno o SiC y fabricantes de dispositivos con el fin de explotar el know-how mediante un acuerdo de licencia de patente.
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18/05/2018

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03/07/2008