Búsqueda de socios para desarrollar herramientas o métodos de medición de la capacidad de disociación de gas en una cámara de reacción de plasma de una unidad de trabajo
Una pyme coreana está especializada en fabricar una fuente y un generador remoto de plasma destinados a fabricantes de semiconductores y LCD (pantallas de cristal líquido). Su producto utiliza plasma para limpiar el interior de una cámara de deposición química de vapor (CVD) en la industria de pantallas y semiconductores. La empresa busca socios para medir la capacidad de disociación de gas con el diagnóstico eléctrico de plasma de una cámara de reacción interna de la unidad. En general, después del proceso de CVD, se utiliza gas en estado radical para limpiar el interior de la cámara. La unidad es un dispositivo que disocia gas en estado neutro mediante radiofrecuencia para obtener gas en estado radical. La cooperación se establecerá en el marco de un acuerdo de cooperación técnica e investigación.